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中美關(guān)稅戰(zhàn)升級!UV 光固化與光刻膠產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)狀與發(fā)展

2025-04-03

  自 2025 年 4 月新一輪中美關(guān)稅博弈啟動,全球科技產(chǎn)業(yè)鏈陷入震蕩,UV 光固化與光刻膠產(chǎn)業(yè)也被卷入這場風(fēng)暴,面臨著前所未有的挑戰(zhàn)與機(jī)遇。

  關(guān)稅沖擊下的產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀

  成本飆升:產(chǎn)業(yè)鏈的沉重負(fù)擔(dān)

  美國在半導(dǎo)體設(shè)備和材料領(lǐng)域占據(jù)技術(shù)與市場優(yōu)勢,中國相關(guān)企業(yè)對美國供應(yīng)商存在一定依賴。關(guān)稅加征使進(jìn)口設(shè)備和材料價格大幅上漲,以光刻膠為例,其關(guān)鍵原材料部分依賴進(jìn)口,關(guān)稅導(dǎo)致采購成本顯著增加,企業(yè)生產(chǎn)成本控制難度劇增。在 UV 光固化產(chǎn)業(yè),從光引發(fā)劑到相關(guān)設(shè)備,若涉及美國進(jìn)口,成本均受沖擊。如國內(nèi)某 UV 光固化產(chǎn)品生產(chǎn)企業(yè),因部分光引發(fā)劑從美國進(jìn)口,關(guān)稅后采購成本上漲 20% - 30%,嚴(yán)重壓縮利潤空間。

  供應(yīng)鏈斷裂風(fēng)險加劇

  關(guān)稅打亂原有供應(yīng)鏈節(jié)奏,美國供應(yīng)商或因成本考量減少供貨甚至中斷合作,貨物運(yùn)輸也面臨清關(guān)時間延長、物流成本增加等問題。在光刻膠產(chǎn)業(yè),日本雖為光刻膠供應(yīng)大國,但中美關(guān)稅戰(zhàn)背景下,供應(yīng)鏈穩(wěn)定性受影響,一旦美國對相關(guān)原材料出口進(jìn)一步限制,依賴進(jìn)口光刻膠及原材料的企業(yè)將面臨停產(chǎn)風(fēng)險。UV 光固化產(chǎn)業(yè)同樣如此,若關(guān)鍵零部件供應(yīng)受阻,生產(chǎn)將陷入停滯,部分企業(yè)已開始囤積 6 個月庫存以應(yīng)對可能的供應(yīng)中斷。

  產(chǎn)業(yè)內(nèi)部的應(yīng)對之策

  國產(chǎn)替代加速推進(jìn)

  面對關(guān)稅帶來的進(jìn)口阻礙,中國政府與企業(yè)加大在相關(guān)領(lǐng)域研發(fā)投入與政策支持力度,推動國產(chǎn)替代進(jìn)程。在光刻膠方面,國家大基金三期投入超 500 億元支持研發(fā),南大光電的 ArF 光刻膠已通過 28nm 制程驗(yàn)證,2025 年規(guī)劃產(chǎn)能達(dá) 5000 噸;晶瑞電材 KrF 光刻膠已通過中芯國際驗(yàn)證,ArF 光刻膠研發(fā)順利,受益于政策支持,目標(biāo) 2025 年國產(chǎn)化率提升至 10%。在 UV 光固化產(chǎn)業(yè),國內(nèi)企業(yè)也在積極突破技術(shù)瓶頸,減少對進(jìn)口光引發(fā)劑等原材料的依賴,部分企業(yè)已在電子行業(yè)用 UV 光固化膠粘劑開發(fā)方面取得成果,應(yīng)用于手機(jī)揚(yáng)聲器、攝像模組等領(lǐng)域 。

  企業(yè)積極調(diào)整策略

  相關(guān)企業(yè)通過技術(shù)替代、國內(nèi)供應(yīng)鏈調(diào)整及提前備貨等策略降低風(fēng)險。南大光電明確原材料主要來自國內(nèi)供應(yīng)商,對美國市場直接出口收入占比不足 0.5%,且通過國產(chǎn)替代和提前備貨,降低供應(yīng)鏈中斷風(fēng)險。久日新材對美國市場出口占總營業(yè)收入約 8%,因多數(shù)產(chǎn)品未被關(guān)稅覆蓋,短期內(nèi)美國市場對其光引發(fā)劑需求依舊強(qiáng)勁。部分企業(yè)還加速向其他地區(qū)轉(zhuǎn)移產(chǎn)能,雖面臨遷移成本與效率損失,但一定程度上緩解關(guān)稅壓力 。

  長遠(yuǎn)視角下的發(fā)展趨勢

  技術(shù)創(chuàng)新成為核心驅(qū)動力

  在關(guān)稅戰(zhàn)背景下,企業(yè)更重視技術(shù)創(chuàng)新以提升競爭力。光刻膠產(chǎn)業(yè)中,7nm 以下先進(jìn)制程所需的 EUV 光刻膠成為研發(fā)重點(diǎn),國內(nèi)企業(yè)正加大研發(fā)投入以期突破。UV 光固化產(chǎn)業(yè)也在不斷探索新技術(shù),如研發(fā)高效光引發(fā)體系、拓展單體與交聯(lián)劑選擇范圍等,以提升固化效率、改善產(chǎn)品性能、降低成本,滿足市場對高性能、環(huán)保產(chǎn)品的需求 。

  產(chǎn)業(yè)格局重塑與市場機(jī)遇涌現(xiàn)

  關(guān)稅戰(zhàn)促使全球 UV 光固化與光刻膠產(chǎn)業(yè)格局重塑。一方面,國內(nèi)企業(yè)憑借國產(chǎn)替代機(jī)遇擴(kuò)大市場份額;另一方面,新興技術(shù)如量子計算芯片、碳納米管芯片等發(fā)展,為光刻膠及相關(guān)材料帶來新應(yīng)用場景。同時,物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、大數(shù)據(jù)等領(lǐng)域快速發(fā)展,對半導(dǎo)體及相關(guān)材料需求大增,UV 光固化與光刻膠產(chǎn)業(yè)作為基礎(chǔ),有望在新應(yīng)用場景中開拓市場,迎來新增長點(diǎn) 。

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